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環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì),環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì)理念

綠色環(huán)保網(wǎng)

大家好,今天小編關(guān)注到一個(gè)比較有意思的話(huà)題,就是關(guān)于環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì)的問(wèn)題,于是小編就整理了1個(gè)相關(guān)介紹環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì)的解答,讓我們一起看看吧。

上海微電子已經(jīng)成功生產(chǎn)光刻機(jī)了么?這個(gè)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)是什么水平?

上海微電子可以制造光刻機(jī)不是啥新鮮事,人家從2002年就開(kāi)始立項(xiàng)研發(fā)光刻機(jī)了,只是我們技術(shù)實(shí)在落后,人才又缺乏,因此進(jìn)展一直比較緩慢。不過(guò),進(jìn)入2010年后國(guó)產(chǎn)研發(fā)團(tuán)隊(duì)不斷攻克光刻機(jī)核心子系統(tǒng)的技術(shù)南廣,未來(lái)我國(guó)光刻機(jī)將會(huì)迎來(lái)較快的發(fā)展,基本上可以從低端躍至中端,然后將向最后的高端領(lǐng)域發(fā)起沖擊。

環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì),環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì)理念

1、上海微電子現(xiàn)有情況:目前國(guó)內(nèi)研發(fā)光刻機(jī)的廠(chǎng)商不少,但屬于領(lǐng)先地位的就只有上海微電子,能量產(chǎn)的90nm光刻機(jī),其他廠(chǎng)商只能生產(chǎn)200nm、300nm這樣的光刻機(jī),但在全球光刻機(jī)領(lǐng)域上海微電子屬于低端。

目前,有消息稱(chēng)上海微電子正在研發(fā)28nm節(jié)點(diǎn)光刻機(jī),但實(shí)際情況未知。如果說(shuō)這臺(tái)28nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)能研發(fā)成功,那么我國(guó)芯片生產(chǎn)或?qū)⒒窘鉀Q自主問(wèn)題。

因?yàn)椋?8nm節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)不僅僅只能用來(lái)生產(chǎn)28nm制程芯片,通過(guò)套刻多重曝光可以實(shí)現(xiàn)10nm芯片,如果代工廠(chǎng)技術(shù)過(guò)關(guān),甚至可以實(shí)現(xiàn)7nm制程芯片。

這意味著在芯片制造設(shè)備領(lǐng)域,我們可以實(shí)現(xiàn)較為先進(jìn)的芯片技術(shù),至于具體能不能生產(chǎn)就看中芯這類(lèi)代工廠(chǎng)的生產(chǎn)技術(shù)了。

2、我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域的水平:全球能做光刻機(jī)的廠(chǎng)商其實(shí)沒(méi)幾家,除了荷蘭ASML,剩下就是日系廠(chǎng)商尼康和佳能,以及我們的上海微電子。

但是從這2年的發(fā)展來(lái)看,未來(lái)這個(gè)領(lǐng)域應(yīng)該只有我們和ASML競(jìng)爭(zhēng)了。日系廠(chǎng)商基本屬于出局狀態(tài),這塊它們不愿意再進(jìn)行大量的投資,一句話(huà)燒不起這錢(qián)。

目前我國(guó)對(duì)于光刻機(jī)基本屬于舉國(guó)體制運(yùn)作,2009年中科院牽頭執(zhí)行了02專(zhuān)項(xiàng)計(jì)劃,專(zhuān)門(mén)來(lái)解決光刻機(jī)的問(wèn)題。光刻機(jī)由于整個(gè)系統(tǒng)復(fù)雜,牽涉技術(shù)領(lǐng)域較多,因?yàn)楦骱诵淖酉到y(tǒng)均分配給了不同的技術(shù)團(tuán)隊(duì)和廠(chǎng)商來(lái)研發(fā)。

截至2020年,我們已經(jīng)解決了雙工件臺(tái)(下圖)、浸液系統(tǒng)、準(zhǔn)分子激光光源等核心子系統(tǒng),基本掃清了光刻機(jī)的主要技術(shù)難關(guān),這些子系統(tǒng)如果放眼全球,基本上都是全球第二或第三掌握這些技術(shù)的廠(chǎng)商。

后續(xù)就看上海微電子如今將這些子系統(tǒng)進(jìn)行整合了,他們只是系統(tǒng)制造商。

感謝您的閱讀。

上海微電子已經(jīng)成功生產(chǎn)光刻機(jī)了么?這個(gè)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)是什么水平?

上海微電子在國(guó)內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域確實(shí)走在了前面,根據(jù)有關(guān)消息,上海微電子將在明年交付首臺(tái)國(guó)產(chǎn)的28nm光刻機(jī),真的非常不易。

光刻機(jī)進(jìn)入普通老百姓視野,主要是因?yàn)锳SML生產(chǎn),可以用來(lái)支撐5nm/3nm的EUV光刻機(jī),但是以中芯國(guó)際為例,目前營(yíng)收的大頭,依然來(lái)自40nm及以上的工藝制程,最先進(jìn)的14nm制程貢獻(xiàn)的營(yíng)收還是比較小,所以說(shuō)28nm光刻機(jī)已經(jīng)可以完成80%以上的流片需要。

這個(gè)具有非常重要的戰(zhàn)略意義,就是說(shuō)在極端情況下,我們不至于完全生產(chǎn)不了任何芯片。

再來(lái)看上海微電子在國(guó)內(nèi)相關(guān)領(lǐng)域是個(gè)什么水平?

目前上海微電子作為國(guó)內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的帶頭大哥,占據(jù)國(guó)內(nèi)80%以上光科技市場(chǎng),相關(guān)專(zhuān)利申請(qǐng)超過(guò)2400項(xiàng),已經(jīng)形成了非常高的專(zhuān)業(yè)壁壘,暫時(shí)看不到可以挑戰(zhàn)的企業(yè),可謂是一家獨(dú)大,但是可以說(shuō),上海微電子承擔(dān)的責(zé)任更大,特別是當(dāng)前的大環(huán)境下面,制程工藝向下走,突破的難度越來(lái)越大了。

小結(jié)

上海微電子作為國(guó)內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域的領(lǐng)軍單位,目前的形勢(shì),既是挑戰(zhàn),也是機(jī)遇了。

說(shuō)到光刻機(jī),那就是國(guó)人的痛處,畢竟被卡脖子的感覺(jué)真的太難受了,其實(shí)我們?cè)诎雽?dǎo)體領(lǐng)域被卡脖子的不只是光刻機(jī),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈里面,我們能夠自主掌握技術(shù)的不到一半,還有一半要靠外國(guó)的先進(jìn)設(shè)備和技術(shù)做支撐,認(rèn)為只要突破光刻機(jī)技術(shù)就能不受到卡脖子,那其實(shí)就有點(diǎn)想的太簡(jiǎn)單了。

光刻機(jī)的確是非常重要的環(huán)節(jié),曾經(jīng)在六十年代的時(shí)候,我們的光刻機(jī)水平其實(shí)并不比歐美的差,在六十年代的時(shí)候,我們的機(jī)械領(lǐng)域其實(shí)也并沒(méi)有說(shuō)落后太明顯,只是在特殊的十年當(dāng)中,導(dǎo)致了我們落后,這還只是開(kāi)始,在八十年代的時(shí)候,由于西方先進(jìn)產(chǎn)品進(jìn)入國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的影響,又導(dǎo)致了我們?cè)诎司攀甏e(cuò)過(guò)了機(jī)會(huì)。

這樣總共失去三十年的時(shí)間,就是因?yàn)檫@樣才導(dǎo)致了中間的空白期沒(méi)辦法彌補(bǔ),就算我們后面這二十年的時(shí)間在發(fā)力,但是也很難真正的短時(shí)間內(nèi)趕上,畢竟別人也并沒(méi)有在原地踏步,我們?cè)谶M(jìn)步別人也一樣在前進(jìn),中間還存在著代差,加上原本工業(yè)基礎(chǔ)的薄弱,才有了現(xiàn)在的這種情況。

目前市場(chǎng)上我們能夠自行生產(chǎn)的光刻機(jī)精度只有90納米級(jí)別,中芯國(guó)際升級(jí)的14納米技術(shù)其實(shí)并不是我們自己生產(chǎn)的設(shè)備,這個(gè)就很尷尬了,雖然說(shuō)上海微電跟科學(xué)院聯(lián)合研發(fā)出來(lái)了28納米的光刻機(jī)技術(shù),但是這個(gè)目前來(lái)說(shuō)也只是在實(shí)驗(yàn)室里面的數(shù)據(jù),離組裝到現(xiàn)實(shí)中使用,還不知道要到什么時(shí)候。

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【上海微電子已經(jīng)成功研究了22nm光刻機(jī),這在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)到底什么水平】

我們知道現(xiàn)在的上海微電子已經(jīng)在使用90nm光刻機(jī),這種光刻機(jī)和現(xiàn)在市面上的7nm EUV光刻機(jī)有很大的差異,雖然我們也知道上海微電子確實(shí)是優(yōu)勢(shì)的,畢竟在全球光刻機(jī)市場(chǎng)只有荷蘭、美國(guó)、日本,如今我國(guó)也擁有“入場(chǎng)券”。

有人說(shuō)現(xiàn)在的上海微電子已經(jīng)有了22nm的光刻機(jī)工藝,又有人說(shuō)是28nm工藝的光刻機(jī),這方面確實(shí)讓我們很詫異,到底上海微電子是28還是22nm?

其實(shí),我們雖然有很多所謂的消息,但是我們知道這些消息大多數(shù)是以訛傳訛,不可輕信。但是,不可否認(rèn)的上海微電子確實(shí)是我國(guó)目前在光刻機(jī)領(lǐng)域不可或缺的部分。

在我國(guó)雖然有“翻新”光刻機(jī)的企業(yè),但是像上海微電子這樣的企業(yè)幾乎沒(méi)有,從某種程度上,上海微電子確實(shí)給了我們很多的啟示。

我們也期待在光刻機(jī)領(lǐng)域它有所成績(jī),雖然現(xiàn)在看來(lái),這種成績(jī)還離國(guó)際社會(huì)的ASML的光刻機(jī)有一段距離,但是卻不容忽略它的成績(jī)。

至于到底所謂的上海微電子是不是真正的會(huì)打造出22nm工藝制程的光刻機(jī),已經(jīng)不在重要,重要的是我們?cè)谶~出了一個(gè)重要的步伐。

到此,以上就是小編對(duì)于環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì)的問(wèn)題就介紹到這了,希望介紹關(guān)于環(huán)??萍硷L(fēng)格設(shè)計(jì)的1點(diǎn)解答對(duì)大家有用。

  

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