大家好，今天小編關(guān)注到一個比較有意思的話題，就是關(guān)于環(huán)?？萍嫉某杀镜膯栴}，于是小編就整理了1個相關(guān)介紹環(huán)?？萍嫉某杀镜慕獯?，讓我們一起看看吧。
開發(fā)芯片投資動輒幾百上千億，主要成本都是什么？
芯片是電子產(chǎn)品的核心，我們平常用的電腦、平板、手機、電視機等等都離不開芯片。芯片研發(fā)是極為燒錢的，不是一般公司可以做的。關(guān)鍵是燒完錢還不一定見到效果！
芯片研發(fā)需要頂尖的天才
天才級的科學(xué)家是少之又少的，而芯片研發(fā)方面的天才級的科學(xué)家就更加負(fù)稀缺了，除了需要天才級的科學(xué)家，還需要大量頂尖的工程師。怎么招募到這么多的人才呢？這個人力資源的成本就已經(jīng)非常巨大了。
芯片架構(gòu)授權(quán)
全球超過95%的移動設(shè)備使用的主控芯片都是采用ARM的架構(gòu)。蘋果、高通、華為、聯(lián)發(fā)科、三星等巨頭所研發(fā)的芯片都是用ARM的架構(gòu)。人家的IP是不會給你隨便用的，需要花錢才能得到授權(quán)！大家可能想說，不能自己研發(fā)芯片架構(gòu)嗎？理論上是可以，但等你弄出來，天都亮了，而且你得有這個能力才行！不是說有錢就可以做到的！
EDA工具
有錢，有人，有芯片架構(gòu)了，你還得有工具吧？現(xiàn)在的高端芯片動不動就集成上億個、十幾億個，甚至上百億個晶體管，那是極為復(fù)雜工程，沒有專業(yè)的工具進(jìn)行仿真支持是不行的哦！
三大EDA巨頭分別是Synopsys、Cadence和Mentor Graphic。想用它們的工具又得給錢了。那不用他們的工具不行嗎？還真不行，他們的EDA雖然貴，但它但的性能優(yōu)異。便宜但做不出東西或者效率低也是沒用的。
流片
丑媳婦終須見家翁，芯片設(shè)計出來，就得驗證了，需要找芯片代工廠幫你做樣片進(jìn)行驗證了。芯片生產(chǎn)需要用到極為高端的材料、設(shè)備和技術(shù)。據(jù)說28nm的工藝都需要幾十萬每平方毫米。像麒麟990這種使用7nm工藝的芯片，估計流片一次就得幾億了。一次成功的概率是少之又少的，小公司幾次流片失敗，可能就得破產(chǎn)了。
相關(guān)生態(tài)構(gòu)建
芯片研發(fā)出來，得自己用或者賣給別人用吧？那得構(gòu)建相關(guān)的生態(tài)配套才行啊？你給個指甲片大的芯片給別人，誰能用啊，誰會用啊，要有相關(guān)的技術(shù)支持人員，SDK，工具，技術(shù)文檔等等支持才行啊，這些又需要一個團隊了。
大家覺得開發(fā)芯片還有沒有其它需要投入的地方呢？都可以留言討論一下哦！
主要的成本是時間，不知道什么時候才能研發(fā)出來，好不容易第一代出來后，會發(fā)現(xiàn)不盡如人意，然后再研發(fā)，再測試，當(dāng)把前面的問題解決，發(fā)現(xiàn)還不行，還得優(yōu)化，還得完善，這就是一個周而復(fù)始研發(fā)過程，一個不斷革命的過程，一個痛苦，一個不斷燒錢的過程。在研發(fā)過程中，不僅僅是人工費，還要對應(yīng)的研發(fā)設(shè)備，研發(fā)材料，研發(fā)工具，在研發(fā)場地，主要是研發(fā)周期長，很多研發(fā)投入，現(xiàn)實看是無效的，但為后期的成功打下了基礎(chǔ)，特別是在無技術(shù)參考，無外援的情況下，更是艱難，否則，怎么講技術(shù)保密，要有自己的核心技術(shù)呢？
實際上，中國很少企業(yè)原意對研發(fā)進(jìn)行大幅投資，都希望走捷徑，不要說民企，就是國企中興電子不就是因不沒有核心技術(shù)差點被整死了嗎？而華為在很早很早的時候就預(yù)計到會被整死，所以早早就為自己留了條后路，這就是為什么任老爺子有戰(zhàn)略眼光，他的企業(yè)能活著的原因。
研發(fā)芯片，一般都是大財團，大機構(gòu)才敢做的事情，小企業(yè)，還是先想盡辦法生存下來，盡快成長起來并參予到技術(shù)革命當(dāng)中來，為中國的發(fā)展出財出力出技術(shù)，爭取做中國第二華為。
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中國以往進(jìn)口芯片花的錢，比石油還要多，中美貿(mào)易戰(zhàn)的根源，實質(zhì)也就是芯片戰(zhàn)爭。
開發(fā)芯片為什么這么貴
一款成功的芯片需要經(jīng)過芯片設(shè)計→晶片制作→封裝→測試四個主要步驟，這四個步驟每個步驟都非常復(fù)雜，主要費用大概歸納為以下幾點：
1?光刻機
光刻機是芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為三種：用于芯片生產(chǎn)的光刻機、用于封裝的光刻機、用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機，其中用于生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進(jìn)口。
現(xiàn)在最先進(jìn)的EUV光刻機可以做到7納米的雕刻精度，這相當(dāng)于一根頭發(fā)的萬分之一。由于要達(dá)到這樣的雕刻精度，在雕刻的過程中晶圓需要被快速移動，每次移動10厘米，但誤差必須被控制在納米級別。為了達(dá)到這種精度效果，需要高度的科學(xué)技術(shù)，目前世界上最先進(jìn)的光刻機上有10萬個零件，一部汽車上的零部件只有5000個。7nm以下制程的光刻機只有荷蘭的阿斯麥能制造，是當(dāng)今世界光刻機市場上的絕對霸主，EUV光刻機的研發(fā)集中了歐洲和美國的最先進(jìn)技術(shù)，7nm制程芯片的光刻機每臺賣一億美元。
雖然中國有錢，但是光刻機不是有錢就能買得到，光刻機做為特定商品，美國帶著他的全球盟友限制向別的國家出口特定商品，中國就是被限制的對象。
2?材料處理設(shè)備
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